L'Université Cornell améliore ses recherches grâce au système MOCVD d'AIXTRON

Le 30 septembre 2025, l'Université Cornell a installé son premier système de dépôt chimique en phase vapeur (MOCVD) AIXTRON Close Coupled Showerhead® (CCS). Cette acquisition vise à renforcer le département de science des matériaux de l'université en développant les capacités de recherche sur les matériaux à base de scandium et d'yttrium, essentiels à l'électronique de nouvelle génération.

Ce système permet le dépôt de couches minces de haute qualité, essentielles à la recherche sur les matériaux et au développement de dispositifs. L'intégration du scandium et de l'yttrium peut améliorer considérablement les propriétés piézoélectriques et ferroélectriques, optimisant ainsi les composants électroniques avancés. Cette capacité marque une amélioration notable de l'infrastructure de recherche de Cornell.

AIXTRON a adapté l'outil MOCVD pour traiter les précurseurs à basse pression de vapeur avec une grande précision. Le professeur Hari Nair a souligné l'importance de cette acquisition pour la recherche pionnière sur les propriétés des matériaux, tandis que le Dr Felix Grawert, PDG d'AIXTRON, s'est dit fier de soutenir les avancées de la recherche à Cornell.